半导体晶圆清洗
利用高频超声波配合专用清洗液,去除晶圆表面颗粒、有机物、金属离子及氧化层,温和无损伤,保障晶圆洁净度与平整度,提升芯片良品率。
半导体引线框架清洗
清洗芯片封装引线框架,去除冲压油、金属碎屑及氧化杂质,提升框架与芯片、封装材料的贴合度,保障引线键合牢固性,减少不良品。
光刻掩膜版清洗
清洗光刻掩膜版、光罩,清除灰尘、光刻胶残留及微小颗粒,保护掩膜版镀层,避免杂质影响光刻图案精度,满足半导体光刻工序超高洁净要求。
半导体传感器清洗
采用复合超声波清洗压力、温度等传感元件,去除助焊剂、油污及粉尘,不损伤敏感结构,保障传感器检测精度与信号传输稳定性。
芯片封装件清洗
清洗芯片封装外壳、引线框架及引脚,去除焊锡膏、助焊剂及油污,无残留无腐蚀,保障封装密封性与导电性,提升封装成品可靠性。
半导体陶瓷基片清洗
清洗陶瓷基片、绝缘基片,去除抛光膏、油污及烧结残留,提升基片洁净度与平整度,保障元件粘接强度、绝缘性能及散热效果。
半导体器件清洗
清洗二极管、三极管等分立器件,清除油污、氧化层及金属碎屑,疏通引脚缝隙杂质,保障器件电气性能,避免短路、漏电故障,适配量产需求。
航空光学部件清洗
清洗航空镜头、传感器窗口、透明罩、棱镜和光学镜片,去除指纹、油污、粉尘和抛光残留,保证观测、导航和摄像系统清晰度。
半导体切割件清洗
清洗晶圆切割后的芯片裸片、框架,去除切割液、硅粉及有机残留,无划痕无杂质,保障后续封装、测试工序顺利推进,提升合格率。
半导体设备流体部件
清洗隔膜阀、真空阀等流体部件,去除油脂、颗粒及工艺反应产物,疏通流体通道,保障气体、液体传输精准稳定,降低设备故障风险。
半导体测试治具清洗
清洗测试治具、夹具及探针,清除油污、芯片碎屑及测试杂质,不影响治具精度,保障器件测试结果准确,延长治具使用寿命。